专供大专供大学研究所耐高温耐电镀液厚铜电镀正性光刻胶

深圳市芯泰科光电有限公司·                       

产品热线许经理 :13923866554  QQ:35891230  email:35891230@qq.com

深圳市芯泰科光电有限公司，创立于2014年，是一家服务于微电子领域的产品贸易及技术服务提供商。我们已经成为国内微电子制程领域和相关大学研究所信赖的合作伙伴；公司秉持以忠诚态度对待新旧客户，以客户满意为导向，提供优质高效率的专业服务，提供产品行销及技术支援解决方案。我们目标是成为一家新材料应用技术推广服务的专业供应商。

 正性光刻胶 品牌 产地 型号 厚度 特点 应用 Futurrex 美国 PR1系列 0.4μm～025μm 耐热温度=110 ℃ 湿刻、反应离子束刻蚀、离子植入、电镀 Micro Resist 德国 ma-P 1200系列 0.5～50μm 宽带、g或i线曝光。非常适合作为刻蚀掩模，极好的抗干刻、湿刻性能；优异的电镀性能（酸和碱性镀液中极高的稳定性），光刻胶图案良好的热稳定性；碱性水溶液下显影； CEMI 台湾 EXP-1500 5.0μm~30.0μm 高附着力 适合卷对卷roll to roll工艺。湿法蚀刻 EXP-1520T 5.0μm~14.0μm 耐干法蚀刻 适合高选择比蚀刻工艺。耐干法蚀刻正性光刻胶 EXP-1516S 5.0μm~14.0μm 耐电镀浸泡 适合厚铜长时间浸泡。适用于板级封装和ULED基板铜电镀工艺 AZ 德国 AZ-1500 0.8μm~4.5μm 高感光度，高附着性 G线适合湿法刻蚀工 AZ-6100 1.0μm~6.5μm 耐热耐干法蚀刻 G线适合高选择比蚀刻工艺。耐干法蚀刻正性光刻胶 AZ-3100 1.0μm~3.0μm 耐热耐干法蚀刻，高附着 G线I线适合高选择比蚀刻工艺。耐干法蚀刻正性光刻胶。合湿法刻蚀工 AZ-GXR-600 1.0μm~3.5μm 耐热耐干法蚀刻，高附着 G线I线适合高选择比蚀刻工艺。耐干法蚀刻正性光刻胶。合湿法刻蚀工 AZ-5200 5.0μm~14.0μm 正负反转胶，Lift-off工艺 适用于PVD金属蒸镀掩膜保护  AZ-MIR700 0.8μm~3.2μm 高感光度 I线正型光刻胶，符合ULSI和VLSI制造  AZ-MIR900 2.5μm~4.0μm 厚膜，高分辨率 I线适用于超高剂量离子注入工艺和厚金属层蚀刻工艺 AZ-DX3200P 5.0μm~14.0μm 超高分辨率 KrF适用于密集线图形,适用于half-tone相移光罩 AZ-DX5200P 5.0μm~14.0μm 高分辨率，大焦深 KrF适用于密集线图形,适用于HT-PSM光罩和普通Binary光罩 AZ-P4000 2.0μm~32.0μm 超厚膜，高对比度 G线适用于半导体制造及GMR磁头制造.适合电镀工艺，对电镀工艺高耐受性 AZ-10XT 4.0μm~16.0μm 厚膜，高分辨率，高纵宽比 I线适合电镀工艺，对电镀工艺高耐受性 AZ-PLP系列 7.0μm~18.0μm 高分辨率，高垂直性 适用于bumping和CSP重布线的超厚膜，高分辨率，对电镀工艺高耐受性正型光 AZ 8100 系 列 　 高附着性和高柔软度 最适用于在柔性衬底工艺上 AZ P1350 系 列 5.0μm~7μm 　 应用于光罩制造及光媒介于CD,LD,VCD等光盘制造 AZ TFP-300 系 列 　 高附着性和高可去除性 应用于液晶面板制造，在铬膜和ITO薄膜上实现高附着性 AZ TFP-600 系 列 　 高附着性和高可去除性 应用于液晶面板制造，在各种金属膜上实现高附着性 AZ SFP 系 列 　 高附着性和高可去除性 应用于第五代液晶面板制造。减少旋涂方式所产生的UROKO MURA缺陷，在TFT工艺的各种金属膜上实现高附着性 AZ SR 系 列 　 节省使用量以及节约能量 应用于第五代以上液晶面板制造 AZ RFP 系 列 　 辊式涂布 应用于液晶面板制造，在铬膜和ITO薄膜上实现高附着性 　 　 　 应于有机电致发光显示器 　 　 　 　 　 　 　 　

深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理 :13923866554

深圳市芯泰科光电有限公司是一家服务于半导体和光电子行业的产品技术服务提供商。公司创立于2014年 已成为国内半导体、光电子行业、相关研究所和大学可以信赖的合作伙伴；公司秉持以忠诚态度对待新旧客户 以客户满意为导向 提供优质率的专业服务 导入以代理原厂产品为中心的共用通路平台 提供产品行销及技术支援解决方案。我们期望成为一家经营高科技设备 相关设备配件 材料及技术整合服务的专业供应商。力求服务与营运的创新 公司与客户间利益关系 以维持企业永续的竞争优势。产品热线许经理 :13923866554  QQ:35891230  email:35891230@qq.com

主要产品范围 ：

1、液晶面板(TFT)正型光刻胶

2、触摸屏（Touch Panl）正型光刻胶 超黑矩阵(BM)黑胶 OC光刻胶 卷对卷（Roll to Roll）工艺光刻胶 柔性性路板光刻胶 FPC工艺用正胶

3、倒装(Bumping)工艺光刻胶：适用于电镀铜(ECP)工艺 凸点下金属（UBM）工艺；重布线层（RDL）工艺；影像感测器封装(Copper/Au Piller bump)工艺光

4、LED行业：台阶刻蚀（MESA）工艺正胶 蒸镀（Lift-off）工艺负胶 透明电极（TCL）工艺正胶 电流阻挡层（BCL）工艺正胶 钝化层（PV）工艺正胶 高压芯芯片（HV）工艺正胶。

5、手机盖板行业：3D喷涂曝光型光阻油墨（黑白色） 喷涂曝光纹理光阻油墨 喷涂曝光抗氢氟酸光阻油墨 水性防爆胶 喷涂防爆膜 变色光阻油墨；

6、铜制程工艺：铜制程表面处理剂 铜腐蚀液 不伤金属（Ni,Al,Au,Ag等）去胶液

7、其它配套试剂：高纯低杂质显影液 不伤金属（Ni,Al,Au,Ag等）去胶液, 不伤金属（Ni,Al,Au,Ag等）去腊液 洗边剂(EBR) 不伤铝二氧化硅腐蚀液(BOE) 光刻胶稀释剂 氧化铟锡(ITO)腐蚀液 SiO2抛光液 钻石抛光液 SiO2抛光清洗剂（不伤铝）；

8、其它配件：MOCVD外延设备配件（石英配件 钨钼配件 加热器 周边设备配套）；刻蚀机和蒸发台等设备配件；

9、生产制程辅助工具和材料：Tray盘 花篮 膜 针等

深圳市芯泰科光电有限公司:光电材料、微电子材料、电子元器件、半导体产品、LED

主要客户群体：三安光电、中国中材、中谷光电、圆融光电、映瑞光电、奥伦德、中图光电、太时芯光、新广联、北方华创、量晶、享通、SINOEPI、华磊、上城、蓝晶、普吉、神光安瑞、迪源、华灿、京晶、蓝光、亁照、汉莱、士兰微北京大学、清华大学、中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所、中山大学、西安交大、南京大学、深圳大学先进院等大学研究...

深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理 :13923866554

深圳市芯泰科光电有限公司是一家服务于半导体和光电子行业的产品技术服务提供商。公司创立于2014年 已成为国内半导体、光电子行业、相关研究所和大学可以信赖的合作伙伴；公司秉持以忠诚态度对待新旧客户 以客户满意为导向 提供优质率的专业服务 导入以代理原厂产品为中心的共用通路平台 提供产品行销及技术支援解决方案。我们期望成为一家经营高科技设备 相关设备配件 材料及技术整合服务的专业供应商。力求服务与营运的创新 公司与客户间利益关系 以维持企业永续的竞争优势。

主要产品范围 ：

1、液晶面板(TFT)正型光刻胶

2、触摸屏（Touch Panl）正型光刻胶 超黑矩阵(BM)黑胶 OC光刻胶 卷对卷（Roll to Roll）工艺光刻胶 柔性性路板光刻胶 FPC工艺用正胶

3、倒装(Bumping)工艺光刻胶：适用于电镀铜(ECP)工艺 凸点下金属（UBM）工艺；重布线层（RDL）工艺；影像感测器封装(Copper/Au Piller bump)工艺光

4、LED行业：台阶刻蚀（MESA）工艺正胶 蒸镀（Lift-off）工艺负胶 透明电极（TCL）工艺正胶 电流阻挡层（BCL）工艺正胶 钝化层（PV）工艺正胶 高压芯芯片（HV）工艺正胶。

5、手机盖板行业：3D喷涂曝光型光阻油墨（黑白色） 喷涂曝光纹理光阻油墨 喷涂曝光抗氢氟酸光阻油墨 水性防爆胶 喷涂防爆膜 变色光阻油墨；

6、铜制程工艺：铜制程表面处理剂 铜腐蚀液 不伤金属（Ni,Al,Au,Ag等）去胶液

7、其它配套试剂：高纯低杂质显影液 不伤金属（Ni,Al,Au,Ag等）去胶液, 不伤金属（Ni,Al,Au,Ag等）去腊液 洗边剂(EBR) 不伤铝二氧化硅腐蚀液(BOE) 光刻胶稀释剂 氧化铟锡(ITO)腐蚀液 SiO2抛光液 钻石抛光液 SiO2抛光清洗剂（不伤铝）；

8、其它配件：MOCVD外延设备配件（石英配件 钨钼配件 加热器 周边设备配套）；刻蚀机和蒸发台等设备配件；

9、生产制程辅助工具和材料：Tray盘 花篮 膜 针等

深圳市芯泰科光电有限公司

深圳市芯泰科光电有限公司是一家服务于半导体和光电子行业的产品技术服务提供商。公司创立于2014年 已成为国内半导体、光电子行业、相关研究所和大学可以信赖的合作伙伴；公司秉持以忠诚态度对待新旧客户 以客户满意为导向 提供优质高效率的专业服务 导入以代理原厂产品为中心的共用通路平台 提供产品行销及技术支援解决方案。我们期望成为一家经营高科技设备 相关设备配件 材料及技术整合服务的专业供应商。力求服务与营运的创新 公司与客户间利益关系 以维持企业永续的竞争优势。 主要产品范围 ： 1、液晶面板(TFT)正型光刻胶 2、触摸屏（Touch Panl）正型光刻胶 超黑矩阵(BM)黑胶 OC光刻胶 卷对卷（Roll to Roll）工艺光刻胶 柔性性路板光刻胶 FPC工艺用正胶 3、倒装(Bumping)工艺光刻胶：适用于电镀铜(ECP)工艺 凸点下金属（UBM）工艺；重布线层（RDL）工艺；影像感测器封装(Copper/Au Piller bump)工艺光 4、LED行业：台阶刻蚀（MESA）工艺正胶 蒸镀（Lift-off）工艺负胶 透明电极（TCL）工艺正胶 电流阻挡层（BCL）工艺正胶 钝化层（PV）工艺正胶 高压芯芯片（HV）工艺正胶。 5、手机盖板行业：3D喷涂曝光型光阻油墨（黑白色） 喷涂曝光纹理光阻油墨 喷涂曝光抗氢氟酸光阻油墨 水性防爆胶 喷涂防爆膜 变色光阻油墨； 6、铜制程工艺：铜制程表面处理剂 铜腐蚀液 不伤金属（Ni,Al,Au,Ag等）去胶液 7、其它配套试剂：高纯低杂质显影液 不伤金属（Ni,Al,Au,Ag等）去胶液, 不伤金属（Ni,Al,Au,Ag等）去腊液 洗边剂(EBR) 不伤铝二氧化硅腐蚀液(BOE) 光刻胶稀释剂 氧化铟锡(ITO)腐蚀液 SiO2抛光液 钻石抛光液 SiO2抛光清洗剂（不伤铝）； 8、其它配件：MOCVD外延设备配件（石英配件 钨钼配件 加热器 周边设备配套）；刻蚀机和蒸发台等设备配件； 9、生产制程辅助工具和材料：Tray盘 花篮 膜 针等

客户案例：三安光电、中国中材、中谷光电、圆融光电、映瑞光电、奥伦德、中图光电、太时芯光、新广联、北方华创、量晶、享通、SINOEPI、华磊、上城、蓝晶、普吉、神光安瑞、迪源、华灿、京晶、蓝光、亁照、汉莱、士兰微北京大学、清华大学、中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所、中山大学、西安交大、南京大学、深圳大学先进院等大学研究所

电话：13923866554 13925288900  QQ：35891230